子束复合抛光机”。这是光刻机制造中，神话色彩最浓重的一步——镜面打磨。
在前世，为了将镜片表面打磨到皮米级精度，蔡司的工程师需要耗费数年时间，用最精密的仪器进行无数次的测量和修正。
但在这里，陈启…明只是将自己设计的、包含复杂非球面参数的八块变形镜（Anaorphic irrors）图纸导入系统。
“开始加工。”
巨大的机械臂夹着镜坯，以一种奇异的韵律在高速旋转的磁流变液体中移动。无数细小的磁性颗粒在磁场控制下，如同一支无形的、拥有亿万根刷毛的刷子，对镜面进行着亚纳米级的“粗加工”。
几小时后，粗加工完成。紧接着，一道幽蓝色的高能离子束被激发，如同最锋利的手术刀，开始对镜面进行最后的“雕琢”。离子束每扫过一次，就在镜面上剥离掉几个原子层，其精度之高，已经超出了当前人类物理学的测量极限。
又是几个小时过去。
【所有镜片加工完毕，表面粗糙度：0.05皮米。曲面轮廓误差：低于0.01皮米。】
看到这个数据，就算是心如止水的陈启明，也不禁深吸一口气。0.01皮米！这是什么概念？相当于在整个太平洋海面上，最高的浪花和最低的波谷之间，高度差不超过一根头发丝的百万分之一！
这已经不是工业，而是神迹！
接下来是第三步，也是决定EUV光刻机成败的关键——多层膜（ultiyer）的镀制。
由于没有任何材料能有效折射13.5纳米波长的EUV光，所以EUV光刻机必须使用反射镜。为了最大限度地反射EUV光，镜片表面必须镀上四十到五十层“钼（o）”和“硅（Si）”交替组成的薄膜，每一层的厚度都必须精确控制在几纳米。
在前世，这是全球仅有少数几家公司掌握的核心机密，其反射率的理论极限被公认为70%。
陈启明将八块完美无瑕的镜片送入“原子层沉积（ALd）”设备中。但他并没有直接开始镀膜。
“在o\/Si多层膜之间，插入厚度为0.1纳米的‘钌-石英’复合界面层，以消除界面应力，提升反射率。”
这又是他基于更高维知识进行的魔改！外界科学家还在为如何减少薄膜之间的应力而苦恼时，他已经找到了完美的解决方案。
随着设备运行，不同元素的原子蒸汽被交替注入真空腔体，一层又一层地“刷”在镜片表面。
当镀膜完成，系统给出了最终的检测报告。
【反射率：71.8%。】
超越理论极限！
至此，整套high-NA EUV光学系统的核心部件，这套凝聚了光学、材料学和精密制造巅峰的“神之眼”，在不到十个小时的时间里，被陈启明一个人，从最基础的原材料开始，一手打造完成！
这在地球上是不可想象的。任何一个国家想要复刻这个过程，都需要投入数十年时间和数千亿美元，组织成千上万的顶尖科学家和工程师协同攻关，而且成功率极低。
而这，仅仅是陈启明的第一步。
他马不停蹄地来到下一个实验室，开始制造光刻机的“躯干”——双工件台系统。
这是机械工程的极限。为了效率，它要求一个工件台在进行曝光的同时，另一个工件台已经载着下一块晶圆进行预对准和测量。两个台面需要在真空环境中以超过7G的加速度进行闪电般的交换和移动，同时定位精度必须控制在纳米之内。
陈启明直接调出了他优化的设计方案。
材料，他没有选择传统的陶瓷，而是让系统合成了一种“碳化硅基陶瓷-钛合金复合材料”，在保持超高刚性的同时，将重量降低了30%。
驱动，他设计了一套全新的“哈尔巴赫阵列磁悬浮系统”，利用特殊的磁体排布，在工件台下方产生更强、更
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