倍……”他喃喃自语，声音里充满了绝望，“芯片静态功耗太高了，刚通电就发烫，根本没法用。”
整个实验室陷入了死一般的沉寂。漏电流，这是随着制程微缩，量子隧穿效应增强后最大的噩梦。如果解决不了这个问题，22nm就是一堆废硅。
“是不是掺杂浓度太高了？”
“也许是栅氧层太薄击穿了？”
“要不重新调整Source/Drain的注入能量？”
工程师们乱成一锅粥，各种盲目的猜测满天飞。有人甚至提议推翻现在的配方，从头再来。
“都闭嘴。”
一个冷静得有些冰冷的声音响起。
林星石从人群后方走出来，他的脸色有些苍白。
那是连日不断超频的痕迹，但他的眼睛却亮得吓人，只要他还能撑住，他就能一直开着超频效果前进。
“谁都不许动设备。现在的配方在大方向上没有问题。”林星石走到控制台前，调出了EDA的仿真界面，“给我48小时。”
说完，他将自己关进了旁边的一间独立工作站，并挂上了“请勿打扰”的牌子。
这48小时，成为了中芯国际历史上最漫长的48小时。
工作站内，林星石并没有像别人想象的那样疯狂敲代码。他只是静静地坐在屏幕前，盯着那张放大了数亿倍的3D晶体管结构图。
在他的脑海中，系统的算力全开。
他仿佛缩小成了一个电子，在那迷宫般的晶体管沟道中穿行。他看到了源极，看到了漏极，看到了上方那道控制生死的“闸门”——栅极。
“漏电流……漏电流……”
林星石的思维触角延伸到每一个角落。他在模拟电流的流动，不是靠公式，而是靠直觉，一种建立在海量数据和绝对理性之上的直觉。
时间一分一秒过去。林星石的眼睛布满了血丝，但他依然在思考。
终于，在第46个小时，他的目光锁定在了晶体管边缘的一个不起眼的角落——浅沟槽隔离（STI）与有源区的交界处。
在微观视角下，由于应力效应，这里的晶格发生了极其微小的扭曲。
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这种扭曲在28nm时还可以忽略不计，但在22nm的尺度下，它变成了一条肉眼不可见的高速公路，让电子得以绕过栅极的控制，偷偷溜走。
“找到了。”林星石嘶哑着嗓子，嘴角勾起一抹疲惫的笑容。
他迅速在键盘上敲击，修改了OPC（光学邻近效应修正）的规则文件。他没有改变工艺配方，只是在掩膜版的图形上，在这个特定的角落，增加了一个微小的“耳朵”形状的补偿图形，用来抵消应力带来的晶格扭曲。
门打开了。
门外，张汝京、邱国华、周振，还有几十双眼睛齐刷刷地看过来。
“改掩膜版。”林星石递出一个U盘，声音虽然虚弱，却带着不容置疑的力量，“Layer 34，坐标(X230, Y450)处增加应力补偿图形。立刻去光刻机上做在线修正或者快速制版。”
邱国华接过U盘，手有些颤抖。他看着林星石那张年轻却透着威严的脸，这一刻，他心中的所有怀疑都烟消云散，只剩下了盲目的信任。
“快！按林院士说的做！”
新的验证片在焦急的等待中流出。
这一次，当测试探针扎在晶圆上的那一刻，所有人的呼吸都停止了。
屏幕上的数据开始跳动。
漏电流：0.5nA/μm。
标准值：1nA/μm。
完美达标！不仅达标，甚至比国际巨头的同类指标还要优秀！
“成了！我们成了！”
一声撕心裂肺的欢呼声打破了实验室的寂静。平日里严肃刻板的老工程师们，此刻像孩子一样跳了起来，互相拥抱，有人甚至摘下眼镜偷
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