!”
这又是一个颠覆性的概念。
ASmL的光刻机,是一机一源。
林远要搞“一源多机”。
这将彻底改变半导体工厂的形态。
但是,要传输193nm的深紫外光,普通的镜子不行,光纤也不行。空气都会吸收它。
需要“超高真空管道”和“多层膜反射镜”。
而这,又将触碰到另一个材料学的禁区。
林远刚放下的心,又悬了起来。
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